TSMCのCEO C.C. ウェイ:高度なプロセスでは不十分、まだ十分ではありません 台湾積電(TSMC)は、ウェハーの主要な鋳造所として再び国際的な評価を受けています。会長兼CEOのC.C.ウェイ氏と元会長のマーク・リウ氏は先週、半導体産業協会(SIA)から最高栄誉であるロバート・N・ノイス賞を共同で受賞しました。AIの計算能力が先進的なプロセスの需要急増を牽引する中、ウェイは式典のスピーチで「高度プロセスだけでは足りない、まだ足りない」とほとんど述べず、TSMCがグローバルサプライチェーンで重要な地位を着実に高めていることを示している。 授賞式は西海岸時間20日にカリフォルニア州サンノゼで開催され、世界の半導体およびAI業界の影響力のある人物が集まりました。今年の授賞式では、AMD会長兼CEOのリサ・スー博士が直接授賞式を行い、3人がステージに立つ光景はAIチップサプライチェーンの中核力の象徴とされました。これはTSMCがこの最高栄誉を受賞するのは2008年の創設者モリス・チャンに続き、現職および元リーダーが同時に表彰されたのに続きます。 TSMCは、この賞が同社が先進的なプロセス、先進的なパッケージング、製造エコシステムへの貢献を長期的に推進してきたことに対する世界的な高い評価を示していると指摘しました。7nm、5nm、3nmから今後の量産2nmに至るまで、TSMCは過去10年間で複数の技術ノードに広がり、米国、日本、ヨーロッパなど地域での工場建設を加速させてきました。そのグローバルな製造レイアウトはAI時代のインフラとなっています。 C.C.ウェイ氏とマーク・リウ氏はスピーチの中で、約30年にわたる共に働いてきた経験を振り返り、この栄誉はTSMCチーム全体のものであると強調しました。米国商務長官ハワード・ラトニックも事前収録映像を通じて挨拶を送り、「TSMCでのあなたのリーダーシップは世界を変えました」と直接述べ、先進的な製造業とグローバルな技術進歩を促進しました。彼の発言は聴衆から熱狂的な拍手を受けました。 AI駆動の高度なプロセスの需要について語る際、C.C.ウェイの口調は変わり、顧客の需要は期待をはるかに上回っていると指摘しました。彼は、主要顧客の製品計画や成長期待に基づくと、「TSMCの現在の生産能力はまだ約3倍の差であり」、高度なプロセス能力は「不十分、不十分、まだ十分ではない」と明らかにしました。彼はもともとステージで「もうワハースはやめて」と書かれたTシャツを着たかったと冗談めかして話し、ウェハースの需要が非常に強くて消化しづらいことを示唆し、その夜の最も話題となった。 おすすめの読書