Een andere gekke doorbraak Wetenschappers hebben net de eerste levende huidsensor gebouwd die ontstekingen in het lichaam kan monitoren. Onderzoekers in Japan hebben een "levende sensor display" gecreëerd door huid te ontwikkelen die biologische activiteit visueel kan tonen. Een team uit Tokio heeft epidermale stamcellen gemodificeerd zodat ze reageren op ontstekingen in het lichaam. Ze hebben huidtransplantaten gebouwd waarbij de cellen zijn geprogrammeerd om het NF-κB ontstekingspad te activeren. Wanneer dat pad wordt ingeschakeld, produceert de huid EGFP (versterkt groen fluorescerend eiwit), waardoor het getransplanteerde gebied groen gaat gloeien. Het is in wezen een ingebouwd biologisch display dat laat zien wanneer er ontsteking optreedt, zonder elektronica of bloedtesten. De transplantaten werden op muizen getest, en de huid bleef meer dan 200 dagen functioneren, omdat de gemodificeerde stamcellen voortdurend de epidermis vernieuwen. Het systeem biedt continue, batterijloze, langdurige monitoring van interne gezondheidsstatussen.

DOORBRAAK: Een eerste aanwijzing dat 5G- en 6G-netwerken apparaten kunnen helpen AI te draaien zonder krachtige chips. "Wetenschappers van de Duke University en MIT hebben een systeem gebouwd genaamd WISE dat AI-modellen via radiogolven verzendt, vergelijkbaar met hoe 5G/6G-signalen werken. Kleine apparaten slaan het model niet op, ze halen het uit de lucht." “In vroege tests behield het systeem ongeveer 95,8% nauwkeurigheid bij beeldherkenningstaken terwijl het meer dan 10× minder energie verbruikte dan conventionele AI-hardware.” "De onderzoekers toonden aan dat toekomstige 5G/6G-basisstations AI-modellen kunnen uitzenden zodat drones, camera's en sensoren slimmer kunnen denken zonder grote processors of zware batterijen." Bro, als dit groeit, kunnen onze draadloze netwerken enorme AI-motoren worden die alles om ons heen aandrijven.

Dit is ENORM: Japan's doorbraak in 10nm nano-imprint. Japan heeft zojuist een lithografie-vooruitgang gebouwd die 10 nm kenmerken bereikt en de dominantie van EUV zou kunnen uitdagen... terwijl het slechts een tiende van de energie gebruikt. Dai Nippon Printing (DNP) heeft een 10 nm nano-imprint lithografie (NIL) sjabloon ontwikkeld voor 1,4nm klasse logische halfgeleiders. "In plaats van wafers met extreme ultraviolet licht te beschieten, drukt deze methode fysiek ultra-fijne patronen af, waardoor het energieverbruik tot bijna een tiende van EUV wordt teruggebracht." "DNP's nieuwe NIL-sjabloon bereikt 10 nm lijnbreedtes, vermindert de systeemgrootte en de energiebehoefte, en kan helpen om de enorme kosten en knelpunten van EUV te omzeilen. Klantbeoordelingen beginnen in 2026, met massaproductie gepland voor 2027." We leven in het snelste tijdperk van SciTech-acceleratie..