Một bước đột phá điên rồ khác Các nhà khoa học vừa chế tạo ra cảm biến da sống đầu tiên có thể theo dõi tình trạng viêm bên trong cơ thể. Các nhà nghiên cứu ở Nhật Bản đã tạo ra một "màn hình cảm biến sống" bằng cách kỹ thuật hóa da có thể hiển thị hoạt động sinh học một cách trực quan. Một nhóm từ Tokyo đã điều chỉnh các tế bào gốc biểu bì để chúng phản ứng với tình trạng viêm bên trong cơ thể. Họ đã xây dựng các mảnh ghép da mà ở đó các tế bào được lập trình để kích hoạt con đường viêm NF-κB. Khi con đường đó được kích hoạt, da sẽ sản xuất EGFP (protein huỳnh quang xanh lá cây tăng cường), khiến khu vực ghép da phát sáng màu xanh. Nó về cơ bản là một màn hình sinh học tích hợp cho thấy khi nào có tình trạng viêm xảy ra, mà không cần điện tử hay xét nghiệm máu. Các mảnh ghép đã được thử nghiệm trên chuột, và da vẫn hoạt động trong hơn 200 ngày, vì các tế bào gốc được kỹ thuật hóa liên tục tái tạo lại biểu bì. Hệ thống này cung cấp khả năng theo dõi liên tục, không cần pin, lâu dài về các trạng thái sức khỏe bên trong.

ĐỘT PHÁ: Một gợi ý đầu tiên rằng các mạng 5G và 6G có thể giúp các thiết bị chạy AI mà không cần chip mạnh mẽ. "Các nhà khoa học tại Đại học Duke và MIT đã xây dựng một hệ thống gọi là WISE gửi các mô hình AI qua sóng radio, tương tự như cách mà tín hiệu 5G/6G hoạt động. Các thiết bị nhỏ không lưu trữ mô hình, chúng nhận nó từ không khí." "Trong các thử nghiệm ban đầu, hệ thống duy trì độ chính xác khoảng 95,8% trong các nhiệm vụ nhận diện hình ảnh trong khi sử dụng hơn 10× ít năng lượng hơn so với phần cứng AI thông thường." "Các nhà nghiên cứu đã chỉ ra rằng các trạm gốc 5G/6G trong tương lai có thể phát sóng các mô hình AI để máy bay không người lái, camera và cảm biến có thể suy nghĩ thông minh hơn mà không cần bộ xử lý lớn hoặc pin nặng." Bro, nếu điều này phát triển, các mạng không dây của chúng ta có thể trở thành những động cơ AI khổng lồ cung cấp năng lượng cho mọi thứ xung quanh chúng ta.

Điều này thật LỚN: Đột phá nanoimprint 10nm của Nhật Bản. Nhật Bản vừa xây dựng một tiến bộ trong công nghệ lithography đạt được các đặc điểm 10 nm và có thể thách thức sự thống trị của EUV… trong khi chỉ sử dụng một phần mười năng lượng. Dai Nippon Printing (DNP) đã phát triển một khuôn lithography nanoimprint (NIL) 10 nm cho các bán dẫn logic loại 1.4nm. "Thay vì chiếu sáng các wafer bằng ánh sáng cực tím cực mạnh, phương pháp này in vật lý các mẫu siêu tinh vi, giảm mức tiêu thụ năng lượng xuống gần một phần mười so với EUV." "Khuôn NIL mới của DNP đạt được độ rộng đường kẻ 10 nm, giảm kích thước hệ thống và nhu cầu năng lượng, và có thể giúp vượt qua chi phí khổng lồ và các nút thắt của EUV. Đánh giá của khách hàng sẽ bắt đầu vào năm 2026, với sản xuất hàng loạt dự kiến vào năm 2027." Chúng ta đang sống trong kỷ nguyên tăng tốc SciTech nhanh nhất..