Kolejny szalony przełom Naukowcy właśnie zbudowali pierwszy żywy czujnik skóry, który może monitorować stan zapalny wewnątrz ciała. Badacze w Japonii stworzyli „żywy wyświetlacz czujnika”, inżynierując skórę, która może wizualnie pokazywać aktywność biologiczną. Zespół z Tokio zmodyfikował komórki macierzyste naskórka, aby reagowały na stan zapalny wewnątrz ciała. Zbudowali przeszczepy skóry, w których komórki są zaprogramowane do aktywacji szlaku zapalnego NF-κB. Kiedy ten szlak się włącza, skóra produkuje EGFP (wzmocniony zielony białko fluorescencyjne), co powoduje, że przeszczepiony obszar świeci na zielono. To w zasadzie wbudowany biologiczny wyświetlacz, który pokazuje, kiedy występuje stan zapalny, bez elektroniki czy testów krwi. Przeszczepy były testowane na myszach, a skóra działała przez ponad 200 dni, ponieważ inżynieryjne komórki macierzyste nieustannie odnawiają naskórek. System oferuje ciągłe, bezbateryjne, długoterminowe monitorowanie wewnętrznych stanów zdrowia.

PRZEŁOM: Pierwsza wskazówka, że sieci 5G i 6G mogą pomóc urządzeniom w uruchamianiu AI bez potrzeby posiadania potężnych chipów. "Naukowcy z Uniwersytetu Duke'a i MIT zbudowali system o nazwie WISE, który przesyła modele AI przez fale radiowe, podobnie jak działają sygnały 5G/6G. Małe urządzenia nie przechowują modelu, odbierają go z powietrza." „W wczesnych testach system utrzymywał około 95,8% dokładności w zadaniach rozpoznawania obrazów, zużywając ponad 10× mniej energii niż konwencjonalny sprzęt AI.” "Badacze pokazali, że przyszłe stacje bazowe 5G/6G mogą nadawać modele AI, dzięki czemu drony, kamery i czujniki mogą myśleć mądrzej bez dużych procesorów czy ciężkich baterii." Bracie, jeśli to się rozwinie, nasze sieci bezprzewodowe mogą stać się gigantycznymi silnikami AI, które zasilają wszystko wokół nas.

To jest OGROMNE: przełom w nanoimprintingu 10nm w Japonii. Japonia właśnie zbudowała postęp w litografii, który osiąga cechy 10 nm i może zagrozić dominacji EUV… przy użyciu tylko jednej dziesiątej energii. Dai Nippon Printing (DNP) opracowało szablon litografii nanoimprintingu (NIL) 10 nm dla półprzewodników logicznych klasy 1,4 nm. "Zamiast bombardować wafle ekstremalnym światłem ultrafioletowym, ta metoda fizycznie odciska ultracienkie wzory, redukując zużycie energii do niemal jednej dziesiątej EUV." "Nowy szablon NIL DNP osiąga szerokości linii 10 nm, zmniejsza rozmiar systemu i zapotrzebowanie na moc, a także może pomóc w ominięciu ogromnych kosztów i wąskich gardeł EUV. Oceny klientów rozpoczną się w 2026 roku, a masowa produkcja planowana jest na 2027 rok." Żyjemy w najszybszej erze przyspieszenia SciTech..