Ще один шалений прорив Вчені щойно створили перший живий сенсор шкіри, який може відстежувати запалення всередині тіла. Дослідники в Японії створили «живий сенсорний дисплей» шляхом інженерії шкіри, який може візуально демонструвати біологічну активність. Команда з Токіо модифікувала епідермальні стовбурові клітини, щоб вони реагували на запалення всередині організму. Вони створили шкірні трансплантати, де клітини запрограмовані активувати шлях запалення NF-κB. Коли цей шлях активується, шкіра виробляє EGFP (покращений зелений флуоресцентний білок), через що трансплантована ділянка світиться зеленим. Це, по суті, вбудований біологічний дисплей, який показує, коли виникає запалення, без електроніки чи аналізів крові. Трансплантати тестували на мишах, і шкіра працювала понад 200 днів, оскільки інженерні стовбурові клітини постійно оновлюють епідерміс. Система забезпечує безперервний, безбатарейний, довготривалий моніторинг внутрішнього стану здоров'я.

ПЕРЕРВА: Перший натяк на те, що мережі 5G і 6G можуть допомогти пристроям запускати штучний інтелект без необхідності використовувати потужні чипи. «Вчені з Університету Дьюка та MIT створили систему під назвою WISE, яка передає моделі ШІ через радіохвилі, подібно до того, як працюють сигнали 5G/6G. Крихітні пристрої не зберігають модель, вони підхоплюють її з повітря.» "У ранніх тестах система підтримувала близько 95,8% точності при розпізнаванні зображень, використовуючи більш ніж на 10× менше енергії, ніж звичайне AI-обладнання." «Дослідники показали, що майбутні базові станції 5G/6G можуть транслювати моделі ШІ, щоб дрони, камери та сенсори могли мислити розумніше без великих процесорів чи важких батарей.» Брате, якщо це зросте, наші бездротові мережі можуть стати гігантськими ШІ-двигунами, які живлять усе навколо.

Це ВЕЛИЧЕЗНЕ: прорив японського 10-нм наноімпринта. Японія щойно створила прорив у літографії, який досягає 10-нм характеристик і може кинути виклик домінуванню EUV... витрачаючи лише одну десяту частину енергії. Dai Nippon Printing (DNP) розробила шаблон 10-нм наноімпринтової літографії (NIL) для напівпровідників класу 1,4 нм. "Замість того, щоб обробляти пластини екстремальним ультрафіолетовим світлом, цей метод фізично створює ультратонкі візерунки, скорочуючи енергоспоживання майже до однієї десятої EUV." «Новий шаблон NIL DNP досягає ширини 10 нм, зменшує розмір системи та споживання енергії, а також може допомогти обійти величезні витрати та вузькі місця EUV. Оцінка клієнтів починається у 2026 році, а масове виробництво заплановано на 2027 рік.» Ми живемо в найшвидшу епоху прискорення наукових технологій...