Esto es ENORME: el avance de nanoimprint en 10nm en Japón. Japón acaba de construir un avance litográfico que alcanza características de 10 millas náuticas y podría desafiar el dominio de los EUV... mientras solo consume una décima parte de la energía. Dai Nippon Printing (DNP) ha desarrollado una plantilla de litografía nanoimprint (NIL) de 10 nm para semiconductores lógicos de clase 1,4nm. "En lugar de lanzar obleas con luz ultravioleta extrema, este método imprime físicamente patrones ultrafinos, reduciendo el consumo de energía a casi una décima parte del EUV." "La nueva plantilla NIL de DNP alcanza 10 nm de ancho de línea, reduce el tamaño del sistema y la demanda de energía, y puede ayudar a evitar el enorme coste y cuellos de botella de EUV. Las evaluaciones de los clientes comienzan en 2026, con la producción en masa prevista para 2027." Estamos viviendo en la era de aceleración SciTech más rápida...