Det här är ENORMT: Japans genombrott med 10nm nanoimprint. Japan har precis byggt en litografisk utveckling som når 10 nm-funktioner och kan utmana EUV-dominansen... samtidigt som han bara använder en tiondel av energin. Dai Nippon Printing (DNP) har utvecklat en 10 nm nanoimprint-litografi (NIL)-mall för 1,4nm-klass logikhalvledare. "Istället för att skjuta plattor med extremt ultraviolett ljus, avtrycker denna metod fysiskt ultrafina mönster, vilket minskar energianvändningen till nästan en tiondel av EUV." "DNP:s nya NIL-mall når 10 nm linjebredder, minskar systemstorlek och effektbehov, och kan hjälpa till att kringgå EUV:s enorma kostnader och flaskhalsar. Kundutvärderingar börjar 2026, med massproduktion planerad till 2027." Vi lever i den snabbaste SciTech-accelerationseran...