这太重要了：日本的10纳米纳米印刷突破。 日本刚刚建成了一项光刻技术，能够实现10纳米特征，并可能挑战EUV的主导地位……同时仅使用十分之一的能量。 大日本印刷（DNP）开发了一种用于1.4纳米级逻辑半导体的10纳米纳米印刷光刻（NIL）模板。 “这种方法不是用极紫外光照射晶圆，而是物理地印刷超细图案，将能耗降低到几乎是EUV的十分之一。” “DNP的新NIL模板达到10纳米线宽，减少了系统尺寸和功耗，并可能帮助绕过EUV的巨大成本和瓶颈。客户评估将于2026年开始，计划于2027年进行大规模生产。” 我们正生活在科技加速发展的最快时代..