C'est ÉNORME : la percée du nanoimprint de 10 nm du Japon. Le Japon vient de construire une avancée en lithographie qui atteint des caractéristiques de 10 nm et pourrait défier la domination de l'EUV… tout en utilisant seulement un dixième de l'énergie. Dai Nippon Printing (DNP) a développé un modèle de lithographie par nanoimpression (NIL) de 10 nm pour des semi-conducteurs logiques de classe 1,4 nm. "Au lieu de bombarder les wafers avec de la lumière ultraviolette extrême, cette méthode imprime physiquement des motifs ultra-fins, réduisant la consommation d'énergie à près d'un dixième de l'EUV." "Le nouveau modèle NIL de DNP atteint des largeurs de ligne de 10 nm, réduit la taille et la demande en énergie du système, et pourrait aider à contourner les coûts massifs et les goulets d'étranglement de l'EUV. Les évaluations clients commencent en 2026, avec une production de masse prévue pour 2027." Nous vivons à l'ère de l'accélération SciTech la plus rapide..