這是巨大的消息：日本的10納米奈米印刷突破。 日本剛剛建造了一項光刻技術的進步，能夠實現10納米特徵，並可能挑戰EUV的主導地位……同時僅使用十分之一的能量。 大日本印刷（DNP）已經為1.4納米級邏輯半導體開發了一個10納米奈米印刷光刻（NIL）模板。 "這種方法不是用極紫外光照射晶圓，而是物理地印刷超細圖案，將能量使用降低到接近EUV的十分之一。" "DNP的新NIL模板達到10納米線寬，減少系統大小和功率需求，並可能幫助繞過EUV的巨大成本和瓶頸。客戶評估將於2026年開始，計劃於2027年進行大規模生產。" 我們正生活在科技加速發展的最快時代..